Le PDG d’ASML s’exprime sur la lithographie EUV, la concurrence et les défis liés aux puces d’IA : High-NA/Low-NA, position dans les nœuds avancés et controverse sur l’approvisionnement
À partir des déclarations publiques de Christophe Fouquet, PDG d’ASML, dans des articles de TechCrunch et lors d’événements publics, les trois sources convergent vers une idée centrale : la lithographie EUV reste un maillon essentiel de la fabrication des puces avancées, et ASML défend fermement sa position technologique. En revanche, les éléments précis sur l’économie du High-NA/Low-NA EUV et sur les raisons du ralentissement de l’IA en Chine ne sont pas cohérents d’une source à l’autre, et certains détails ne peuvent pas être confirmés directement à partir des matériaux fournis.